magnetron sputtering

magnetron sputtering 基本解释

磁控溅射：一种通过远程产生高密度等离子体来进行溅射的方法。等离子体是在一个侧室中产生的，该侧室通向包含目标和待镀覆基底的主处理室。

magnetron sputtering 用法和例句

1、Magnetron sputtering deposition

磁控溅射沉积

2、unbalanced magnetron sputtering

非平衡磁控溅射

3、radio frequency magnetron sputtering.

射频测控溅射

4、DC reactive magnetron sputtering

直流反应磁控溅射

5、aluminium control in magnetron sputtering.

磁控溅射铝

6、reactive d.c. magnetron sputtering

反应直流磁控溅射

7、DC facing targets magnetron sputtering

直流对靶磁控溅射

8、direct current pulse magnetron sputtering

直流脉冲磁控溅射

9、direct current reactive magnetron sputtering

反应磁控溅射法

10、Advance in reactive magnetron sputtering

反应磁控溅射的进展

重点词汇

magnetron n. 磁控管 [化] 磁控管

sputtering v.(引擎、灯或火)发噼啪声；气急败坏地说；急促而语无伦次地说；sputter的现在分词